超高速・超精細電子線描画によるフォトニックNEMS/MEMSの実現
光情報社会においてデバイスの大規模化が進んでいます。通常、電子線描画でナノ構造を実現するためには小さい領域を描画するのですが、本研究では大面積を高精細に描画するキャラクタープロジェクション法を用いてフォトニックNEMS/MEMSデバイスの実現を目指しています。
研究分野1
高精細高速電子線描画用キャラクタープロジェクション法の光デバイスへの展開
電子線描画の方法は、ポイントビーム法、可変成形ビーム法（VSB）、キャラクタープロジェクション（CP）法の3つの手法が提案・実用化されています。高精細・高速描画を実現するために可変矩形パターンを描画するVSB法が主に用いられておりますが、パターンエッジが矩形近似されてしまいます。そこで、あらかじめ円、三角形などの基本パターンをスタンプを押すように描画できるCP法を用いることで、フォトニックデバイスやナノ構造体を高精細で高速に大面積描画する手法を通じて、これからの情報社会で役に立つフォトニックナノデバイスを実現していきます。